1、在工艺上,本文提出了“分层堆积,多次曝光,一次显影”的方法来制作3D结构。
2、采用该掩模,可进一步解决深X射线光刻中的重复对准多次曝光问题。
3、还有些用多次曝光的方式把不同的事物叠加起来了,从而产生一种新的东西。
4、采用多次曝光技术,提高了相减象的质量。
5、该图片花了10天时间,由342张经过多次曝光后的照片迭合而成,我们可以从中看到1500多个不同类型的星系。
6、这为改进激光诱导扩散工艺,用多次曝光实现面均匀的杂质浓度分布奠定了理论基础。
7、为了制造出超大口径的脉冲压缩光栅,提出了一种采用多次曝光拼接技术制作大口径脉冲压缩光栅的方法。
8、利用该成像系统分别进行了时间域多次曝光,空间域光强编码调制,自适应PID反馈控制三种动态范围扩展实验。
9、提出用双光束干涉多次曝光的方法实现三维结构光子晶体。
10、微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精度。